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ku娱乐真人游戏.350纳米工艺!俄罗斯第一台自研光刻机问世!这是什

来源:ku酷游官网入口 作者:ku游网页登录浏览:19次更新:2024-06-18 03:43:40

  俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克(Vasily·Shpak)告诉媒体:“我们制造并组装了第一台国产光刻机,作为泽廖诺格勒(莫斯科卫星城)技术生产线的一部分,

  尽管 350nm 甚至比现阶段全球主流成熟制程工艺都落后不少,但在俄罗斯看来,它仍然能在汽车、能源和电信等诸多行业中发挥不小的应用价值。

  值得一提的是,据说俄罗斯的这台光刻机成本只需要 500 万卢布(当前约合人民币 40 万),要知道目前 ASML(阿斯麦)的同类光刻机动辄几千万甚至上亿人民币。如果该消息属实的话,表明俄罗斯在自主发展半导体技术的道路上取得了巨大突破。

  此前,俄罗斯政府启动了一项国家计划,计划到 2030 年自研出 28nm 工艺的芯片,对尽可能多的外国芯片进行逆向工程,并培养本土人才从事国产芯片替代工作。

  俄罗斯最先进的晶圆厂只能生产采用 65nm 制造技术的芯片,而且用的都是欧美的设备,随着俄乌战争导致被封锁。俄罗斯科学院微结构物理研究所副所长尼古拉·奇卡洛表示,作为光刻技术的全球领导者,ASML 已研发其 EUV 光刻系统近 20 年,该技术已被证明非常复杂。

  而且,晶圆设备不仅限于光刻机。还需要有其他类型的设备用于执行蚀刻、沉积、光刻胶去除、计量以及检查操作,此外还有一些不太先进的机器,例如超纯空气和水发生器,这些机器都是来自于西方市场。也就是说,即使俄罗斯成功制造出光刻机,仍需要数百台设备来建造一座现代化晶圆厂,而目前西方已经彻底切断了对俄罗斯的供应。

  但无论如何,俄罗斯为了实现半导体产业自主可控,首先加大了对光刻机领域的投入和支持,尽管目前 350nm 的工艺并不先进,但对于战时的俄罗斯已经非常重要了,特别在意义上。

  其实,去年瓦西里·什帕克在接受俄新社采访时就表示,俄罗斯将在 2024 年生产 350nm 国产光刻机,2026 年研制出 130nm 光刻机。

  “很明显,如果不走完全程,就不可能一次性制造出薄拓扑结构的设备,” 瓦西里·什帕克表示:“目前世界上只有两家公司拥有这种光刻技术:荷兰的 ASML 和日本的尼康,没有其他公司能做到这一点。”

  不过现在我们已经踏上了这条道路,不是孤军奋战,而是与白俄罗斯人一起,中国也在朝着这个方向努力,这场竞赛已经开始!他补充道。

  瓦西里·什帕克认为,所有其他微电子器件,包括微、电力电子器件、电信电路、汽车电子以及许多其他器件,因为技术和成本的原因,将在未来许多年内对 65-350nm 的工艺保持需求,而且占市场的 60%。

  俄罗斯工业和贸易部并不觉得没有掌握更先进的工艺有什么问题,他们认为 ≤45nm 的工艺只对处理器和存储器有意义,而这些只占 10-15%。对于现阶段俄罗斯在俄乌战场上持续巨大的消耗,这台光刻机的问世不仅可以使其一定程度摆脱西方制裁,更给予了俄罗斯国内极大的信心,未来将大幅减少对外依赖。

  值得一提的是,本周彭博社引述知情人士消息称,美国荷兰政府人员会面时,光刻机巨头阿斯麦(ASML)表示有能力远程瘫痪台积电位于地区的最先进的极紫外光刻机(EUV)。

  2016 年首次研发成功以来,ASML 已向全球客户卖出了两百多台 EUV 设备,其中代工龙头台积电最多,而且该设备需要频繁维护,如果没有 ASML 的备件,它们很快就会停止工作。

  350nm工艺的芯片是什么水平? 大致相当于英特尔1995年推出的Pentium 120MHz处理器(P54CQS),放在今天大致用于对芯片工艺要求不高的领域。比如模拟芯片、功率半导体、传感器或者低端MCU、军工产品。除此之外,其应用可能还包括各类FPV和“小摩托”这些属于一次性用品,使用时间比较短。

  目前在半导体制造行业,DUV(深紫外)光刻机可以用于制造7nm及以上工艺的芯片,涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片,随着工艺向5nm、3nm进化,EUV(极紫外光)设备成为未来光刻技术和先进工艺的核心。而用于7nm及以下先进芯片制造工艺的光刻机设备中,ASML公司是唯一的供应商。Gartner数据显示,2020年,ASML在全球光刻机市场份额达到95%。

  资料显示,俄罗斯的350nm光刻机采用的是超紫外线平版印刷术。据塔斯社解释,平版印刷是生产纳米结构的最广泛的技术之一。最初,平版印刷是一种印刷方法,通过在压力下将油墨从平坦的印版转移到光滑的表面来进行印刷。而微纳电子学中,光刻在硅基板表面的特殊敏感层(抗蚀剂)中形成浮雕图案,该图重复了微电路的几何形状。

  因此,有些网友对俄罗斯的光刻机十分不屑,认为其落后了西方30年。但在俄罗斯看来,这已经是历史性的突破,借用俄媒的话就是“够用就行”。

  这一重要消息对于全球半导体行业,甚至全球而言,也有着重要意义。如果什帕克说法属实,就意味着,俄罗斯将成为继美国、荷兰、日本等国之后,第五个完全掌握光刻技术的国家,同时也是在美国制裁之下唯一自研出全新芯片光刻机的国家。

  目前,俄罗斯有两家主要的晶圆厂,分别是Mikron和Angstrem公司,前者提供65-250nm芯片制造能力,后者(2019年破产重组)提供90-250nm芯片制造,拥有8英寸晶圆厂,两家都以提供军用、航天和工业领域芯片产品为主。因此,预计新的国产光刻机设备将会供应到两家企业当中。

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