网编辑独家专访了上海微电子装备有限公司（简称SMEE）产品总监周畅，共同探讨高端设备的国产化之路。

　　SMEE总监周畅：上海微电子装备有限公司成立于2002年，公司主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、3D-TSV、

　　-TFT、LED、Power Devices等制造领域。本次展会，上海微电子主要带来的是高端光刻机设备。目前国产高端光刻设备不仅迈出了从无到有的关键一步，而且随着几年来与客户工艺的不断磨合以及产品性能持续提升，与国外设备相比，国产设备已经形成了一些产品特色和优势。在2004年以前，国内基本上都是国外设备，这几年随着国产设备技术水平的提高，我们看到越来越多高端设备实现了国产化，包括SMEE致力于推动的高端光刻设备的国产化进程。

　　上海微电子装备有限公司产品总监周畅（左）与编辑SMEE在光刻设备领域已有十多年的技术积累，前期花了大量的时间潜心研究，随着技术逐渐走向成熟，上海微电子陆续推出了一系列的光刻机产品。例如封装光刻机，首台设备在客户产线上线后就有不错的表现，并赢得了客户连续新订单。这正是建立在我们前期长时间的技术积累以及内部对产品的严格测试，才保证了SMEE光刻设备的优异表现。目前国内市场对于SMEE封装光刻机已有很高的认知度，市场占有率大幅领先国外设备。

　　SMEE产品总监周畅：半导体照明产业属于新兴行业，在高亮LED发展起来之后应用领域大大扩展。SMEE专门推出面向LED PSS制造和电极制造的SSB300系列步进投影光刻机，具有高分辨率和焦深方面的明显优势，凭借性能优势及长期运营成本优势，我们预期SSB300未来能够替代目前

　　SMEE产品总监周畅：掌握核心专利才能掌握话语权，高科技企业对于专利都非常重视，SMEE也不例外。截至2013年12月，SMEE直接持有专利1400余项，涉及光刻设备整机、光刻设备部件、光刻工艺、光刻材料、半导体器件等多技术领域，申请基本覆盖了SMEE产品的主要销售地域。在高端设备领域，需要大量的专利技术支撑，这也是SMEE的一大优势。同时正是由于掌握了大量自主创新的核心技术，SMEE能够对客户需求快速响应，为客户提供更加适合的产品。

　　光刻机研发最大的挑战是其精密性和复杂性。举例来说，SMEE光刻机内部某些结构装配误差要小于10微米，测量及定位精度达到0.1微米，这足以可见其精密程度，因此，光刻机也号称人类制造的最精密的设备。